01 / Gas, Heating & Biasing
Climate Infinity
In-Situ TEM用 ガス雰囲気・加熱・電圧印加試料ホルダー
制御されたガス環境下で加熱・電圧印加を組み合わせ、気体と個体固相互作用に伴う構造・化学変化を原子分解能でその場観察。8つの電気接点を備えた着脱式ユニバーサルチップにより、TEM/STEM切替や装置間相関、ガス・液体実験への拡張に対応します。

Climate Holder + Nano-Reactor刺激を与えながら、変化の瞬間を原子スケールで捉える
ガス、液体、電気、温度、研究テーマに合わせた5つの環境制御システムで、材料の動的挙動をその場観察します。

About the series
オランダのDENSsolutions社製、TEM用In-Situホルダーシリーズは、試料を電子顕微鏡内に保持したまま、加熱、冷却、電圧印加、ガス・液体フローなどの外部刺激を精密に与え、その場で起こる構造・組成・特性の変化をリアルタイムで捉える観察システムです。
Climate Infinity、Stream Infinity、Lightning、Lightning Arctic、Wildfireの5製品で、触媒反応、電池、半導体、量子材料、腐食、材料合成など幅広い研究に対応。MEMSナノチップと安定した環境制御により、実環境に近い条件と高分解能観察の両立、反応データとTEM像の相関解析、再現性の高い実験設計を支援します。
加熱・冷却・バイアス印加・ガス・液体フローを、研究目的に合わせて選択し制御できます。
MEMSナノチップと高安定ホルダーにより、動的条件下でも試料変化を高い空間分解能で捉えます。
専用ソフトウェアで刺激条件と取得データを同期し、再現性の高い実験設計と相関解析を支援します。
Product selector
製品名を選択すると詳細へ移動します。
| Climate Infinity | Stream Infinity | Lightning | Lightning Arctic | Wildfire | |
|---|---|---|---|---|---|
| 主な刺激環境 | ガス + 加熱/ バイアス | 液体 + 加熱 / バイアス | 加熱 + バイアス | 冷却 / 加熱 + バイアス | 高温加熱 |
| 加熱温度範囲 | 室温 - 1000℃ | 室温 - 100℃ | 室温 - 1,300℃ | -160℃ - 800℃ | 室温 - 1,300℃ |
| 主な用途 | 触媒・材料成長・腐食 | 電池・電極触媒・ライフサイエンス | 固体電池・ReRAM・半導体 | 強誘電・磁性・量子材料 | 材料工学・ナノ材料 |
Product lineup
環境制御の種類と観察対象に応じて、最適なシステムを選択できます。
01 / Gas, Heating & Biasing
In-Situ TEM用 ガス雰囲気・加熱・電圧印加試料ホルダー
制御されたガス環境下で加熱・電圧印加を組み合わせ、気体と個体固相互作用に伴う構造・化学変化を原子分解能でその場観察。8つの電気接点を備えた着脱式ユニバーサルチップにより、TEM/STEM切替や装置間相関、ガス・液体実験への拡張に対応します。

Climate Holder + Nano-Reactor02 / Liquid + Biasing or Heating
In-Situ TEM用 液中観察・加熱・電圧印加
液中でのその場透過電子顕微鏡観察(LPTEM)をさらに 進化させるシステムです。加熱・電圧印加・液体フローを組み合わせた複合刺激制御により、液中試料の動的変化をリアルタイムで捉えます。

Stream Holder + Nano-Cell03 / Heating + Biasing
In-Situ TEM用 バイアス印加&加熱試料ホルダー
4点プローブ方式でバイアスと加熱を個別または同時に制御し、電気刺激下の構造・特性変化をリアルタイム観察。ピコアンペアの電流感度を有するI-V測定を同時に行う加熱実験が可能となるように設計されています。

Lightning Holder + Nano-Chip04 / Cooling, Heating & Biasing
In-Situ TEM用 冷却、加熱&バイアス試料ホルダー
液体窒素による冷却とMEMSナノチップによる局所加熱を組み合わせ、低温から高温まで連続的に温度を制御。冷却中または加熱中のバイアス実験と原子分解能観察に対応します。
* 専用の加熱用ナノチップを使用することで、最高加熱温度を高くすることができます。
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Lightning Arctic + Nano-Chip05 / High-temperature Heating
In-Situ TEM用 加熱試料ホルダー
正確な4端子抵抗値フィードバック制御で、最高1,300℃までの高温加熱に対応。高温下での材料変化を、低ドリフトかつ高い温度均一性を保ちながら観察します。
* 記載されている仕様は、TEMの仕様構成に依存します。
Wildfire カタログ を ダウンロード ↗
Wildfire Holder + Nano-Chip※ 掲載仕様は提供カタログに基づく概要です。達成可能な分解能・傾斜角・対応構成などはTEM本体の仕様やシステム構成により異なります。詳細は個別カタログをご確認ください。
Consultation
試料、刺激条件、TEM機種、必要な分析方法をもとにご相談ください。