高真空装置(成膜装置および高真空装置)

高真空装置

高真空装置 (成膜装置及び高真空搬送装置)

 
高真空装置(成膜装置及び高真空搬送装置)

西華デジタルイメージは、新たにフランスVINCI社の高真空装置(成膜装置及び高真空搬送装置)の取り扱いを開始しました。Vinci Technology社は石油・ガス分野に於いて研究所向け、特殊用途向けの幅広い種類の装置を製造しています。2008年に、高真空装置で定評のあったMECA2000社を傘下に収め、新たに高真空装置の分野に参入しましたVINCI社で設計、開発、製造された高真空装置は、欧州各地の様々な研究所で採用されています。

VINCI社は、各種成膜装置(PVD、CVD、PLD、MBE)をご提供致します。また、お客様のニーズに依りカスタマイズ仕様にも対応致します。
 各種検査装置(XPS、AES、RHEED等)の組み込み
 高真空搬送路との結合

製品ラインナップ紹介

PVD10 / 20 先端ハイブリッド成膜装置
PVD10 / 20 先端ハイブリッド成膜装置
  • 熱蒸着、電子線蒸着、マグネトロンスパッタ蒸着のハイブリッドシステム
  • 有機・無機成膜対応
  • パワフルな自動制御ソフトウエア搭載
PVD10 / 20 仕様表

 

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構成タイプ  システム
PVD-10 E PVD-10 S PVD-10 H*
基板加熱(600℃まで)  ×  ×    ×
基板冷却(-150℃まで)   ×   ×  × 
基板回転   ×   ×   ×
カソード (最大4)  -  ×   Max depends
Nbr. Of Thermal / Organic
スパッタダウン  -   ×  -
スパッタアップ  -   ×  × 
オーガニック / 熱 (最大10)  ×   - Max depends
Nbr. Of cathodes 
グローブボックスの互換性   ×  × 
サンプルバイアス  -  ×    × 
スロットルバルブ  ×     ×
* マルチデポジションシステム:スパッタリング、有機蒸発、熱蒸発
UHV-E450 E-Beam&MBE成膜装置
UHV-E450 E-Beam&MBE成膜装置
UHV-E450 E-Beam&MBE成膜装置
  • クライオパネル内臓の10-10mbr高真空チャンバー ム
  • 広範な成膜温度:-120~1500℃
  • UHV&ドライポンプに依るコンタミの低減
  • LN2冷却機構を持つ基板マニュピレーターに依る低温成膜(アモルファス、または格子構造)
  • Electron Bombardment Heaterによるエピタキシャル成長
  • RHEED観察機構、及びIn-situモニターポート
  • ロードロック機構
  • 真空搬送路結合対応 
MECATRANSTM 高真空搬送路
MECATRANSTM 高真空搬送路
MECATRANSTM 高真空搬送路
  • 10-10mbr高真空基板搬送トンネル
  • 304L/316Lステンレス材使用
  • ベークアウト温度:200℃
  • マグネティックカップリングに依るフリクションフリー & ゼロパーティクルの搬送を実現
  • 2”×12pcs基板トレイ
  • ゲートバルブ機構により各部の保守が容易
  • ロードロック機構・高搬送速度(50cm/s)
  • オプションで自動搬送にも対応可能

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